箱式真空氣氛爐可供工礦企業(yè)、科研等單位、大中專院校實驗室和車間作化學分析、物理測定所用。在輻射室內(nèi)輻射爐管沿爐墻周圍圍城一個圈狀，由于加熱爐的底部有燃燒器，火焰以豎直向上狀態(tài)噴射，箱式真空氣氛爐火焰是和爐管平行且等距離的，保持同一水平截面上爐管的熱強度呈現(xiàn)均勻性。但是箱式真空氣氛爐爐長的熱強度分布并不是均勻的。箱式真空氣氛爐通常在輻射室頂部懸掛高鉻鎳合金鋼的輻射錐，用它的再輻射作用使爐管的軸向熱強度趨于均勻。但是由于輻射錐的材質(zhì)的特殊性，多采用為高鉻鎳合金鋼，費用較高，一般圓筒爐的熱負荷大于0.4×10 4 kw 時，就不再采用輻射錐。
鄭州安晟開發(fā)研制的箱式真空氣氛爐適用于工 礦企業(yè)、大專院校，科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品用。真空氣氛爐是一種*實驗設(shè)備，適用于金屬，納米，單晶硅，多晶硅，電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下，氣氛熱處理的加熱設(shè)備。箱式真空氣氛爐主要用于材料試驗、合成、燒結(jié)等。爐體保溫性能良好，節(jié)能*，氣氛爐還可用于、復合材料、粉體材料、結(jié)構(gòu)陶瓷、合金的真空熱壓燒結(jié)。
針對高溫常壓實驗設(shè)備中的新型空氣加熱箱式真空氣氛爐爐溫特性的復雜性和工業(yè)上的要求，對它的控制有一定的難度。隨著計算機技術(shù)、控制理論的發(fā)展，箱式真空氣氛爐參數(shù)的測量 和溫度的控制已進入了微機化、智能化的階段。除了在硬件上進行改進外，*控制理論的應(yīng)用是當前箱式真空氣氛爐溫度控制大的亮點。箱式真空氣氛爐爐膛內(nèi)安置有不銹鋼真空 管，從真空管前端抽真空，后端排氣或進氮氣。因此，常規(guī)箱式真空氣氛爐不能采用這些加熱與隔熱材料。