光學(xué)薄膜的特點(diǎn)及測厚檢測設(shè)備介紹
由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代?，F(xiàn)代，光學(xué)薄膜已廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。
光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的；可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r(shí)，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫散射；膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面；由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。
測量方法非接觸式/光譜干涉儀
測量對象電子、光學(xué)用透明平滑薄膜、多層薄膜
測量原理光譜干涉儀
產(chǎn)品特點(diǎn)實(shí)現(xiàn)高測量重復(fù)性（± 0.01 μm 或更小，取決于對象和測量條件）
不易受溫度變化的影響
可以制造用于研究和檢查的離線型和制造過程中使用的在線型。
反射型允許從薄膜的一側(cè)測量
只能測量透明涂膜層（取決于測量條件）
產(chǎn)品規(guī)格測量厚度1 至 50 μm（用于薄材料）、10 至 150 μm（用于厚材料）
測量長度50-5000 毫米
測量間距1 毫米 ~
小顯示值0.001 微米
電源電壓ac100 伏 50/60 赫茲
工作溫度限制5～45℃（測量時(shí)溫度變化在1℃以內(nèi)）
濕度35-80%（無冷凝）
測量區(qū)域φ0.6毫米
測量間隙約 30 毫米
關(guān)鍵詞：檢測設(shè)備