spectra在線膜厚測量裝置技術分析
使用小型卡爾蔡司光譜儀，根據(jù)形狀和尺寸對每種應用進行樣品包裝。從薄膜和圓盤形狀到玻璃板和圓柱狀物體，如果同時使用顯微光學系統(tǒng)，則可以將光線縮小到細點，并輕松測量樣品的薄膜厚度。
可測量樣本示例硅、氧化硅、氮化硅
砷化鎵
二氧化鈦
光刻 膠
染料膜、油膜和彩色濾膜
影片
涂料和粘合劑
紫外光固化樹脂
金屬氧化膜、介電膜
聚合體
空氣層
光盤、中藥、光盤
以1200mm薄膜厚度測量包為例，我們將介紹enplanner。該系統(tǒng)可以測量長薄膜的薄膜厚度線輪廓。 安裝在執(zhí)行器上的光譜反射測量單元的最大行程為 1200 mm，可移動并測量薄膜厚度。 圖表顯示在顯示屏上，可以保存和打印測量數(shù)據(jù)。
產(chǎn)品規(guī)格測量厚度范圍0.5-100um（光學厚度）實際厚度是將上述除以折射率得到的值
保障區(qū)域傳感器、急停開關、聯(lián)鎖
測量時間15分鐘，1200毫米
權力ac100v?50，60hz?5a以下
測量位置設置在 0 到 1200 mm 之間，間距為 1 mm
寬度分辨率0.1-200mm可任意設定
寬度位置精度±0.02毫米
設置波長范圍400-1000納米
設置發(fā)光部分5倍物鏡
測量光斑直徑φ1毫米