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輻射溫度計在單晶硅提拉設備的溫度控制上的運用

發(fā)布時間:2024-09-28
輻射溫度計在單晶硅提拉設備的溫度控制上的運用
多晶硅在坩堝中熔化時的溫度控制和晶種后旋轉提拉時的溫度控制。
從升降機視口進行的溫度測量。
單晶硅提拉過程中的溫度控制。
選型要點對于硅的溫度測量,在 1.1 μm 或更小的波長下進行溫度測量是最佳的,因為溫度的發(fā)射率變化很小。
ftkx 系列和 flhx 系列是理想的,因為它們具有廣泛的遠距離、小光點類型(從 φ0.15 起)。由于光纖頭結構緊湊且耐熱150°c,因此即使環(huán)境溫度稍高也可以安裝。
頭分離型無需采取輻射熱對策。
所選機型new!在惡劣環(huán)境和狹小空間也能自由使用的1ms光纖型
半階型
光纖式輻射溫度計ftkx系列
測量溫度范圍:100°c至2000°c
纖維型(耐熱磁場)
高溫
用于通過石英
0.1ms/1ms快速響應
用于金屬
new!1ms 輻射溫度計,規(guī)格可根據(jù)測量對象改變
無纖維輻射溫度計 flhx 系列
測量溫度范圍:90°c 至 2000°c
高溫
用于通過石英
0.1ms/1ms快速響應
用于金屬
關鍵詞:溫度計
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