在線式等離子清洗機等離子體處理硅油光致發(fā)光性能影響：
顯示和發(fā)光技術的發(fā)展使得應用于光源的白光發(fā)射材料得到高度關注。近年來，人們發(fā)現(xiàn)非晶si:c:0:h材料的光致發(fā)光pl)可以覆蓋350~800nm的光譜范圍，因此它成為希望極大的白光發(fā)射候選材料。
為了獲得可能應用的白光發(fā)射材料，人們探索了多種非晶si:c:0:h材料的光致發(fā)光性能，如反應直流磁控濺射制備的非晶si:c:o:h薄膜、熱蒸發(fā)沉積和融化一涂覆技術制備的非晶sic,0, 薄膜、反應直流磁控濺射和等離子體增強的化學氣相沉積制備的氫化非晶碳化硅6-sic:h)薄膜，以及在線式等離子清洗機等離子體增強的化學氣相沉積制備的摻硅類金剛石碳膜。
在制備這些薄膜時，通常需要采用較高的沉積溫度或較高的后處理溫度，如熱蒸發(fā)沉積a-sic,o,薄膜的沉積溫度高達800℃，融化-涂覆技術制備a-sic,o,薄膜的燒結溫度更是高達1300℃。
當將發(fā)光材料應用于光電集成技術時，如此高的溫度可能導致其他材料和器件的損傷，因此發(fā)展低溫下制備非晶si:c:0:h光發(fā)射材料的方法就變得非常重要。硅油是一種含si、c、0、h組分的高分子材料。由于其穩(wěn)定的化學性能，硅油常常作為發(fā)光材料的封裝材料而在發(fā)光器件中得到應用。
近年來對非晶si:c:o:h光發(fā)射材料的研究表明材料的光致發(fā)光性能與薄膜中的鍵結構、缺陷、納米顆粒和團簇有關。硅油的鍵結構可以直接用在線式等離子清洗機ar等離子體處理而改變，因此，可以采用在線式等離子清洗機設備處理硅油來改變硅油結構或制備非晶si:c:o:h薄膜，獲得具有光致發(fā)光特性的改性硅油或非晶si:c:o:h薄膜。
在線式等離子清洗機等離子體中，放電產(chǎn)生處理硅油所需的活性基團，而可以控制轟擊硅油的離子能量，可以將等離子體反應與離子轟擊效應相結合，從而改變硅油的結構，獲得具有光致發(fā)光特性的改性硅油或非晶si:c:o:h薄膜。